磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
来源:学生作业帮 编辑:搜搜做题作业网作业帮 分类:综合作业 时间:2024/06/11 20:41:29
磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上.
后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.
后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.
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